华卓晶科核心产品产业化存在质疑。此次IPO能否帮助其攻克技术难关？

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核心产品产业化存疑虑

公开资料显示，华卓精密的核心产品是光刻机双工件台，并基于其核心技术开发了超精密测控设备整机及零部件等衍生产品。光刻机的工件台是光刻机的核心子系统之一，约占光刻机成本的10%~20%。其主要功能是承载晶圆按照指定的运动轨迹进行高速超精密运动，完成曝光所需的一系列动作，包括上下料、对准、晶圆表面测量和曝光等。光刻机工件台可以大大提高光刻机的精度和生产效率。

目前，华卓晶科针对国内高端IC前端光刻机的需求，推出了DWS和DWSi两大系列双工件台产品。 2017年至2019年，公司光刻机双工件台收入占总收入的10%。征收率从28.12%下降到0。

华卓晶科称，该公司是目前国内第一家能够自主研发并实现光刻机双工件台商业化生产的企业。是国内光刻机龙头企业上海微电子的双工件台产品及技术开发供应商。商业。不过，根据招股书，目前只有上海微电子一家公司能够通过该公司的双工件台产品实现销售收入。事实上，早在2015年7月，该公司就与上海微电子就光刻机双工件台业务签署了多项技术开发和产品销售合同，总金额达1.2亿元。随后几年陆续交付并获得上海微电子验收。 2017年至2019年，公司光刻机双工件台业务向上海微电子确认收入分别为1521.37万元、795万元、0.00万元，占同期主营业务收入的28.12%、9.28%、0.0%分别时期。 0.00%。截至目前，剩余技术开发和产品均处于研发阶段，尚未完成验收。

从以上数据可以看出，华卓晶科对上海微电子的销售收入逐年下滑，2019年没有直接销售收入。此外，除了上海微电子外，光刻机双工件台业务还有没有其他新客户可以产生新的收入。在销售收入下滑的同时，公司光刻机双工件台毛利率也呈现逐年大幅下滑：

据披露，华卓晶科光刻机双工件台2017年至2019年毛利率分别为67.31%、26.99%、0%，呈逐年大幅下滑趋势。对此，公司解释称，2019年，公司与双工件阶段相关的技术开发和产品销售仍处于研发生产阶段，尚未实现营业收入； 2018年光刻机双工件台项目毛利率明显高于2017年，下降原因主要是2018年受理的技术开发项目开发难度高于预期，导致更高的投资；公司2018年为上海微电子提供分系统集成测试和运动控制技术开发，其中涉及复杂的控制系统设计、开发和调试工作，开发阶段遇到的技术难度超出预期，开发难度和开发周期也高于预期，导致人员费用和其他成本投入增加，最终导致毛利率大幅下降。

从华卓晶科的上述解释可以了解到，该公司在光刻机双工件台技术研发中遇到了一定的问题，并且很可能是核心技术遇到的问题导致了项目周期延长且进度不及预期，从而影响商业交付进程。毕竟，华卓精密双工件光刻机产品的商业模式是根据客户需求定制研发、生产、交付。很难实现标准化批量生产。

研发投入高于行业平均水平

招股书披露，华卓晶科2017年至2019年分别实现营业收入5400万元、8600万元、1.21亿元，净利润分别为1300万元、1500万元、2100万元。虽然利润规模一般，但研发投入明显高于行业平均水平。 2017年至2019年，华卓精科与可比公司研发投入占营业收入比例对比如下：

从上表可以看出，华卓晶科2017-2019年研发投入占营业收入的比例分别为30.75%、96.33%和117.24%。基于较大的研发投入，公司目前拥有专利175项，其中发明专利139项、29项实用新型、2项外观设计、5项美国专利。

虽然专利数量看似较多，但与行业上市公司对比显示，华卓晶科近三年的研发投入明显高于行业平均水平。对此，华卓晶科解释称，公司仍处于成长期，营业收入较小；同时，公司作为一家技术先进的科技创新公司，需要较大的研发投入，目前公司还承担了多项需要较高投资金额的专项研发项目，最终导致公司研发投入核算营业收入占比高于同行业企业。

尽管华卓精密科技近年来在研发上投入了大量资金，但光刻机双工件台业务并没有太大起色，而且该业务还呈现出逐年下滑的趋势。双工件台作为华卓精科的核心产品之一，为国内光刻机双工件台实现“0到1”的突破做出了一定的贡献。但与国际领先相比，仍存在一定的局限性。差距很大。

国产替代任重而道远

光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术和资金门槛非常高。也正是因为如此，能够生产高端光刻机的厂家少之又少。目前最先进的7nm光刻机只有ASML一家。日本佳能、尼康基本放弃了第六代EUV光刻机的研发。

相比之下，国内技术领先的上海微电子量产光刻机中性能最好的90nm光刻机目前正在向高端光刻机发展。公司参与的02特种光刻机项目中制程光刻机为28nm，计划于2020年12月交付。

华卓精密科技作为上海微电子光刻机双工件台供应商，前期积累了大量的技术储备。但迄今为止，光刻机用双工件台产品仍处于小批量定制生产阶段，尚未开发出来。实现规模化批量生产。

虽然华卓晶科声称，公司目前的光刻机双工件台采用了最先进的磁悬浮平面电机双工件台解决方案，在自主开发的先进算法的控制下，可以实现纳米级的分辨率和相应的套印精度。指标、最大速度、最大加速度、移动平均偏差、移动标准偏差等关键性能参数接近国际同类设备水平。但从公司目前光刻机双工件台的业务发展情况来看，核心技术是否已“接近国际同类设备先进水平”，这仍有待验证。

华卓晶科表示，作为国内集成电路设备生产的核心企业，正在积极为集成电路设备国产化做出贡献。尤其是在全球贸易摩擦加剧的背景下，公司不断加大研发投入，与国内领先的集成电路设备企业精诚合作，为攻克技术难关而不断努力，尤其值得肯定。

但华卓精密科技在核心技术上与国外企业还存在较大差距。公司核心产品光刻机双工件台的研发遇到了诸多技术难点，公司短期内难以形成工业化生产。因此，公司能否借科创板上市的契机，通过资本市场运作攻克这一技术难题，值得期待。 （校对/李）